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[校内新闻] 史蒂文斯理工创造出50纳米超长可控胶体纳米线

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发表于 2014-3-27 12:58:43 |显示全部楼层
本帖最后由 8023 于 2014-3-27 09:43 PM 编辑

史蒂文斯理工的Ke Du等人近期在英国物理学会的顶级期刊NANOTECHNOLOGY上发表一篇论文。在这篇工作中,Ke Du等人通过控制plasma etching技术从而制备多种类型的胶体纳米线。通过控制刻蚀参数,纳米线的高宽比可以达到20:1。同时,此种纳米线的制备方法可以和纳米干涉光刻相结合,从而制备出多尺度的复合纳米结构(图1)。此种复合纳米结构可以改变材料表面的表面性能从而被应用为超疏水表面,防腐蚀表面和超强的粘结界面。
史蒂文斯理工的博士研究员Junjun Ding评论道:制备直径小于50纳米的纳米线一直是纳米工艺界的难点,传统工艺比如ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY和FOCUSED ION BEAM通常费时,而且制备成本很高。Ke Du等人提出的此种干刻工艺方法具备效率高,成本低的特点,是近期纳米学界的一大突破。

文章的全文可在此处下载:
http://iopscience.iop.org/0957-4484/25/16/165301/article



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